高純度20%フッ素窒素混合ガス（F2/N2）
製品基本情報
製品概要
半導体製造における成膜装置のチャンバークリーニングで使用されるガスです。
主に12インチラインのCVD装置で使われています。
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
腐食性ガスに対する包材技術による安定した品質
他クリーニングガスに比べ、地球温暖化系数が低い (GWP値=0)
半導体メーカー向けの豊富な販売実績
豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観／無色～微淡黄色の気体 | 臭気／刺激臭 |
| 国連番号／3306 | 高圧ガス 圧縮ガス 酸化性ガス |
| 毒性 | - |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
F2/N2の物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 気体 |
| 色 | 無色～微淡黄色 |
| 臭い | 特徴的な臭気、刺激臭 |
| 融点 |
フッ素=-219.61℃(0.209kPa) 窒素=-209.86(101.3kPa) |
| 沸点 |
フッ素=-188.13℃(101.3kPa) 窒素=-195.82℃(101.3kPa) |
| 引火点 | フッ素は支燃性、窒素は不燃性なので、引火点はない |
| 蒸気圧 |
フッ素：C.P. -129.0℃,5.57MPa |
| 相対蒸気密度 (20 ℃) | 1.3392 (計算値) フッ素=1.696 kg/m3 （0 ℃、101.3 kPa） 窒素=1.2507kg/m3 （0 ℃、101.3 kPa） |
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