高純度20%フッ素窒素混合ガス（F2/N2）
製品基本情報
製品概要
半導体製造における成膜装置のチャンバークリーニングで使用されるガスです。
主に12インチラインのCVD装置で使われています。
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特長
- 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
腐食性ガスに対する包材技術による安定した品質
半導体メーカー向けの豊富な販売実績
豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
製品特性
性状及び分類
| 外観：無色～微淡黄色の気体 | 臭気：刺激臭 |
| 国連番号：3306 | 高圧ガス 圧縮ガス 酸化性ガス |
| 毒性 | - |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、安全データシート (SDS) をご参照下さい。
F2/N2の物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 気体 |
| 色 | 無色～微淡黄色 |
| 臭い | 特徴的な臭気、刺激臭 |
| 融点 | フッ素=-219.61 °C (0.209 kPa) 窒素=-209.86 °C (101.3 kPa) |
| 沸点 | フッ素=-188.13 °C (101.3 kPa) 窒素=-195.82 °C (101.3 kPa) |
| 引火点 | フッ素は支燃性、窒素は不燃性なので、引火点はない |
| 蒸気圧 | フッ素：C.P. -129.0 °C, 5.57 MPa 窒素：C.P. -147.2 °C, 3.394 MPa |
| 相対蒸気密度 (20 °C) | 1.3392 (計算値) フッ素=1.696 kg/m3 (0 °C, 101.3 kPa) 窒素=1.2507 kg/m3 (0 °C, 101.3 kPa) |
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