高純度ガス

半導体製造における成膜装置のチャンバークリーニングで使用されるガスです。

半導体製造における絶縁膜のエッチング工程で使用されるガスです。

半導体製造におけるコンダクタの成膜工程で使用されるガスです。

半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。特にポリシリコンのエッチングに適しています。

半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。

半導体製造における絶縁膜のエッチング工程で使用されるガスです。

半導体製造における絶縁膜の成膜工程で使用されるガスです。特に酸化膜の形成に適しています。

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。特に酸化膜のエッチングに適しています。

半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。

半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。

半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。

半導体製造における絶縁膜の成膜工程で使用されるガスです。特に窒化膜の形成に適しています。

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。特に窒化膜のエッチングに適しています。

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。特に酸化膜のエッチングに適しています。

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。特に酸化膜のエッチングに適しています。

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。特に酸化膜のエッチングに適しています。

半導体製造における成膜装置のチャンバークリーニングで使用されるガスです。