高純度ガス・溶剤、除害装置他
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半導体製造工程で使用される高純度溶剤を幅広く取り揃えております。
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先端半導体や先端半導体向け材料（フォトレジスト）をターゲットにした高品質溶剤です。
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半導体・液晶ディスプレイ・電子基板の各製造工程において、レジスト・ワックス・フラックス残渣の洗浄に用いる溶剤です。
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半導体ウエハの製造工程で発生する、地球温暖化の原因となるPFCガス（パーフルオロカーボンガス）をクリーンなガスとして排出できる排ガス処理装置です。
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無電解めっき法を用いて、半導体製造装置の金属表面にNi合金系被膜を多層に積層成膜する処理です。
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半導体製造のAl、poly-Si、酸化膜（SiO2）などによるドライエッチング工程において発生する有害酸性ガスを、安全でクリーンなガスとして排出できる排ガス処理装置です。
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