厚膜レジスト形成用 感光性フィルム
Photec HMシリーズ
製品基本情報
製品概要
高アスペクト比の厚膜レジストが形成可能な感光性フィルムです。
メタルマスク製造などの電鋳用に使用できます。
特長
- 解像度・密着性に優れ、高アスペクト比のレジストが形成可能。
- 用途に応じた膜厚ラインアップを展開しています（膜厚35～200 µm，要相談)。
- レジストのサイドウォール形状が優れるため、良好なめっきライン形状が形成可能。
（測定の一例）
| 項目 | 単位 | HM-4000シリーズ (コンタクト露光機対応品) |
||
|---|---|---|---|---|
| HM-4056 | HM-4075 | HM-40112 | ||
| レジスト膜厚 | µm | 56 | 75 | 112 |
| 露光量 | mJ/cm2 | 85 | 130 | 270 |
| 超高圧水銀ランプ※1 | ||||
| 密着性(L/S=x/400) | µm | 22 | 35 | 32 |
| 解像度(L/S=x/x) | µm | 25 | 35 | 50 |
- ※1 平行光露光機
レジスト形成例
HM-4056
レジスト膜厚：56 µm
Φ=30 µm
HM-40112
レジスト膜厚：112 µm
L/S=180 µm/30 µm
HM-40112
レジスト膜厚：112 µm
レジスト直径：Φ=30 µm (スペース：40 µm)