高純度亜酸化窒素（N2O）

製品基本情報

製品概要

半導体製造における絶縁膜の成膜工程で使用されるガスです。
特に酸化膜の形成に適しています。

亜酸化窒素（N2O）

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メリット

  • さまざまな酸化膜の形成が可能
  • 複数の生産拠点からの強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
  • 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
  • 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
  • 47Lから大型容器（ISOチューブトレーラー）まで幅広い荷姿の提供

特性値

性状及び分類

外観／無色の気体もしくは液体 国連番号
／1070（圧縮ガス）
／2201（液化ガス）
CAS NO／10024-97-2 甘味な芳香
  • ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。

N2Oの物理・化学的性質

項目 データ
物理状態 気体
外観 液化ガス
色 室温では無色のガス
臭い 無臭～わずかに甘い匂い
ｐＨ 該当しない
融点 -90.85 ℃ (87.8kPa)
沸点 -88.47 ℃ (101.3kPa)
引火点 支燃性
蒸気圧 87.8kPa(-90.8℃) 5.15MPa(20℃) 7.26MPa(36.5℃=臨界温度)
相対蒸気密度 (20 ℃) 1.53 (空気=1)
相対密度

液密度 ：1.226kg/l(沸点)

ガス密度 ：1.977kg/m3(0℃,101.3kPa)

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