高純度FC-2316(C4F6)

製品基本情報

製品概要

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しています。

FC-2316

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メリット

  • 高アスペクト比でのエッチングが可能
  • 業界トップクラスの生産量であり、強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
  • 他エッチングガスに比べ、地球温暖化係数が低い(GWP値≦1)
  • 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
  • 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート

    特性値

    性状及び分類

    外観・臭気/無色無臭の気体 国連番号/3160
    CAS NO/685-63-2 液化ガス
    • 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。

    C4F6の物理・化学的性質

    項目 データ
    物理状態 気体
    外観 液化ガス
    無色透明
    pH 該当しない
    融点 -132.1 ℃
    沸点 5.4 ℃
    臨界温度 139.6 ℃
    自然発火点 490 ℃
    蒸気圧

    0.178 MPa(20 ℃)

    0.473 MPa(50 ℃)

    相対蒸気密度 (20 ℃) 5.6(空気=1)
    相対密度

    1.434 (20 ℃) /飽和

    爆発範囲 (上限、下限) (g/m³)

    下限:5vol %

    上限:27vol %(室温、101.3 kPa、空気中)

    但し、酸素不存在下でも、圧力 0.61 MPa、温度 60 ℃でニクロム線溶断により11.7 Jのエネルギーを与えると圧力上昇を伴い分解し、CF4とC(炭素)を生成するというデータがある。

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