高純度FC-2316(C4F6)
製品基本情報
製品概要
半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しています。
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受付時間 平日9時~18時(土日・祝日・当社指定の休業日を除く)
メリット
- 高アスペクト比でのエッチングが可能
- 業界トップクラスの生産量であり、強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- 他エッチングガスに比べ、地球温暖化係数が低い(GWP値≦1)
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
外観・臭気/無色無臭の気体 国連番号/3160 CAS NO/685-63-2 液化ガス - ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
C4F6の物理・化学的性質
項目 データ 物理状態 気体 外観 液化ガス 色 無色透明 pH 該当しない 融点 -132.1 ℃ 沸点 5.4 ℃ 臨界温度 139.6 ℃ 自然発火点 490 ℃ 蒸気圧 0.178 MPa(20 ℃)
0.473 MPa(50 ℃)
相対蒸気密度 (20 ℃) 5.6(空気=1) 相対密度 1.434 (20 ℃) /飽和
爆発範囲 (上限、下限) (g/m³) 下限:5vol %
上限:27vol %(室温、101.3 kPa、空気中)
但し、酸素不存在下でも、圧力 0.61 MPa、温度 60 ℃でニクロム線溶断により11.7 Jのエネルギーを与えると圧力上昇を伴い分解し、CF4とC(炭素)を生成するというデータがある。
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