高純度HFC-41(CH3F)
製品基本情報
製品概要
半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に窒化膜のエッチングに適しています。
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- さまざまな窒化膜のエッチングに使用可能
- 業界トップクラスの生産量で、複数の生産拠点から強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- HFCガスの中では地球温暖化指数が比較的低い(GWP値＝92)
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観／無色の気体 | 臭気／無臭 |
| CAS NO／593-53-3 | 国連番号／2454 |
| 高圧ガス | 可燃性 |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(MSDS)をご参照下さい。
CH３Fの物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 液化ガス |
| 色 | 無色 |
| 臭い | エーテル臭 |
| ｐＨ | 該当しない |
| 融点 | -141.8 ℃ |
| 沸点 | -78.2 ～ -75.7 ℃ |
| 相対蒸気密度 (20 ℃) | 1.20 (air=1) |
| 相対密度 | 0.88 - 1.20 （-78 ℃） |
| 溶解度 | 水: 0.228 % （20 ℃、分圧0.101 MPa） |
| 爆発限界 (vol %) | 6.8 - 20.3 vol % （空気中） |
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