高純度FC-C318(C4F8)
製品基本情報
製品概要
半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しています。
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- 高アスペクト比でのエッチングが可能
- 業界トップクラスの生産量で、複数の生産拠点からの強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観・臭気／無色無臭の気体 | 国連番号／1976 |
| CAS NO／115-25-3 | 液化ガス |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(MSDS)をご参照下さい。
C4F8の物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 液化ガス |
| 色 | 無色 |
| ｐＨ | 該当しない |
| 融点 | -41 ℃ |
| 沸点 | -6 ℃ (101.3kPa) |
| 引火点 | 不燃性 |
| 臨界温度 | 115.2 ℃ |
| 蒸気圧 |
131kPa (0℃) 273kPa (21℃) |
| 臨界圧力 | 2.77 MPa |
| 相対蒸気密度 (20 ℃) | 8.66g/L (21℃、101.3kPa) |
| 相対密度 | Gas: 7.33 (air=1、101.3kPa) |
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