高純度FC-218(C3F8)
製品基本情報
製品概要
半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しています。
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受付時間 平日9時~18時(土日・祝日・当社指定の休業日を除く)
メリット
- さまざまな酸化膜のエッチングに使用可能
- 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
外観/無色の気体 | 臭気/無臭 |
CAS NO/76-19-7 | 国連番号/2424 |
高圧ガス 液化ガス | 不燃性 |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
C3F8の物理・化学的性質
項目 | データ |
---|---|
物理状態 | 気体 |
外観 | 液化ガス |
色 | 無色 |
臭い | エーテル臭 |
pH | 該当しない |
融点 | -183.0 ℃ |
沸点 | -36.7 ℃ |
引火点 | 非引火性 |
自然発火点 | 不燃性 |
蒸気圧 | 0.788 MPa (21.1 ℃) |
相対蒸気密度 (20 ℃) | 6.5 (空気=1) |
相対密度 | 1.35 (20℃) |
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