高純度FC-218(C3F8)

製品基本情報

製品概要

半導体製造における絶縁膜エッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しています。

FC-21

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メリット

  • さまざまな酸化膜のエッチングに使用可能
  • 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
  • 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
  • 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート

特性値

性状及び分類

外観/無色の気体 臭気/無臭
CAS NO/76-19-7 国連番号/2424
高圧ガス 液化ガス 不燃性
  • 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。

C3F8の物理・化学的性質

項目 データ
物理状態 気体
外観 液化ガス
無色
臭い エーテル臭
pH 該当しない
融点 -183.0 ℃
沸点 -36.7 ℃
引火点 非引火性
自然発火点 不燃性
蒸気圧 0.788 MPa (21.1 ℃)
相対蒸気密度 (20 ℃) 6.5 (空気=1)
相対密度 1.35 (20℃)

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