高純度FC-116(C2F6)

製品基本情報

製品概要

半導体製造における成膜装置のチャンバークリーニングで使用されるガスです。
主に8インチラインのCVD装置で使用され、エッチングにも使うことができます。

FC-116(C2F6)

お問い合わせ

メリット

  • 業界トップクラスの生産量であり、強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制を確立
  • 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
  • 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート

特性値

性状及び分類

外観・臭気/無色無臭の気体 国連番号/2193
CAS NO/76-16-4 液化ガス
  • 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。

C2F6の物理・化学的性質

項目 データ
物理状態 気体
外観 液化ガス
無色
臭い エーテル臭
pH 該当しない
融点 -100.6 ℃
沸点 -78.15 ℃
引火点 不燃性
自然発火点 870 ℃
蒸気圧 3.03 MPa (19.7 ℃)
相対蒸気密度 (20 ℃) 4.8 (空気=1、21.1℃)
相対密度 1.109 (0℃、液体)

お問い合わせ