高純度FC-116(C2F6)
製品基本情報
製品概要
半導体製造における成膜装置のチャンバークリーニングで使用されるガスです。
主に8インチラインのCVD装置で使用され、エッチングにも使うことができます。
お問い合わせ
受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- 業界トップクラスの生産量であり、強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制を確立
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観・臭気／無色無臭の気体 | 国連番号／2193 |
| CAS NO／76-16-4 | 液化ガス |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
C2F6の物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 液化ガス |
| 色 | 無色 |
| 臭い | エーテル臭 |
| ｐＨ | 該当しない |
| 融点 | -100.6 ℃ |
| 沸点 | -78.15 ℃ |
| 引火点 | 不燃性 |
| 自然発火点 | 870 ℃ |
| 蒸気圧 | 3.03 MPa (19.7 ℃) |
| 相対蒸気密度 (20 ℃) | 4.8 (空気=1､21.1℃) |
| 相対密度 | 1.109 (0℃、液体) |
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