高純度塩化水素（HCl）
製品基本情報
製品概要
半導体製造におけるコンダクタの成膜工程で使用されるガスです。
特にシリコン膜の形成に適しており、シリコンチャネルの成膜などに使われます。
またクリーンガスとしても使用されます。
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- 腐食性ガスに対する包材技術による安定した品質
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観／無色の気体もしくは液体 | 臭気／刺激臭 |
| CAS NO／7647-01-0 | 国連番号／1050 |
| 高圧ガス 液化ガス | 毒性、腐食性 |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
HClの物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 液化ガス |
| 色 | 無色 |
| 臭い | 刺激臭 |
| ｐＨ | 0.1(1.0N) 1.10(0.1N) 2.02(0.01N) 3.02(0.001N) 4.01(0.0001N) |
| 融点 | -114.22 ℃ |
| 沸点 | -85.05 ℃ (1013hPa) |
| 引火点 | 不燃性 |
| 臨界温度 | 51.49 ℃ |
| 自然発火点 | 不燃性 |
| 蒸気圧 | 35424 mm Hg (25℃) |
| 臨界圧力 | 81.6atm |
| 相対密度 | 1.268 (空気=1) |
| 密度 | 1.639 g/cm³ (0℃) |
| 爆発範囲 (上限、下限) (g/m³) | なし(不燃性) |
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