高純度四フッ化ケイ素（SiF4）
製品基本情報
製品概要
半導体製造におけるコンダクタのエッチング工程で使用されるガスです。
さまざまなエッチングの他、SiOF形成、光ファイバー形成にも使われます。
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観／無色の気体 | 臭気／窒息性臭気もしくは刺激臭 |
| CAS NO／7783-61-1 | 国連番号／1859 |
| 高圧ガス | 毒性 |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
SiF4の物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 気体 |
| 外観 | 液化ガス |
| 色 | 無色 |
| 臭い | 特有な臭い（刺激臭） |
| ｐＨ | 該当しない |
| 融点 | -95.7 ℃ |
| 沸点 | -65 ℃ (0.2 MPa) |
| 引火点 | 該当しない |
| 臨界温度 | -14.2 ℃ |
| 臨界圧力 | 3.72 MPa |
| 相対蒸気密度 (20 ℃) | 4.67 g/L (-1 ℃) |
| 相対密度 | 3.57 （空気＝1、15℃） |
| 密度 | 4.67 g/l (-1℃) |
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