高純度フッ化水素（HF）
製品基本情報
製品概要
半導体製造における絶縁膜のエッチング工程で使用されるガスです。
特に酸化膜のエッチングに適しており、シリコン表面の自然酸化膜のエッチングなどに使われます。
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受付時間 平日9時～18時（土日・祝日・当社指定の休業日を除く）
メリット
- 強靭なサプライチェーンによる安定した供給体制
- 腐食性ガスに対する包材技術による安定した品質
- 半導体メーカー向けの豊富な販売実績
- 豊富な取り扱い実績に基づく充実した技術サポート
特性値
性状及び分類
| 外観／無色の気体もしくは液体 | 臭気／刺激臭 |
| CAS NO／7664-39-3 | 国連番号／1052 |
| 不燃性・腐食性ガス | 毒物 |
- ※ 詳しいガス性状及び安全性については、製品安全データシート(SDS)をご参照下さい。
HFの物理・化学的性質
| 項目 | データ |
|---|---|
| 物理状態 | 液体 |
| 外観 | 液体 |
| 色 | 無色 |
| 臭い | 強い刺激臭 |
| 臭気閾値 (ppm) | 0.042ppm |
| ｐＨ | 強酸 (2 ％で1 以下を示す。) |
| 融点 | -83.53 ℃ |
| 沸点 | 19.51 ℃ |
| 蒸気圧 | 103.3 kPa (20℃) |
| 相対蒸気密度 (20 ℃) | 0.69 (空気=1、計算値) |
| 相対密度 | 0.987 (20℃) |
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