電子工業用高純度溶剤

ソルファインシリーズ

製品基本情報

製品概要

半導体製造工程で使用される高純度溶剤を幅広く取り揃えております。洗浄、リンス、レジスト溶媒など幅広い用途に対応しています。

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メリット

  • 1L瓶からキャニスター缶各種、コンテナまで様々な荷姿に対応可能
  • 複数種の有機溶剤を一定の組成に混合した混合溶剤にも対応
  • 母液（製品タンク）保証、充填口保証、荷姿（充填荷姿）保証に対応
  • リストに記載していない溶剤についても、ラボ(試薬)・パイロットの小スケールから高純度化に対応

製品ラインナップ

分類 製品名 化合物名称 CAS・製品組成 用途
炭化水素 トルエン トルエン 108-88-3 -
キシレン キシレン 1330-20-7 -
アルコール メタノール メタノール 67-56-1 -

IPA

 イソプロピルアルコール 67-63-0 -
MIBC 4-メチル-2-ペンタノール 108-11-2 -
ケトン アセトン 2-プロパノン 67-64-1 -
MEK メチルエチルケトン 78-93-3 -

MIBK

 メチルイソブチルケトン 108-10-1 -
シクロヘキサノン シクロヘキサノン 108-94-1 -
エーテル ジエチルエーテル ジエチルエーテル 60-29-7 -
ジブチルエーテル ジブチルエーテル 142-96-1 -
環状エーテル

THF

 テトラヒドロフラン 109-99-9 -
1,4-ジオキサン 1,4-ジオキサン  123-91-1 -
グリコールエーテル PGME プロピレングリコールモノメチルエーテル 107-98-2 -
PGMEA  プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 108-65-6 -
エステル 酢酸エチル        酢酸エチル 141-78-6 -
ソルファイン-BA 酢酸ブチル 123-86-4 -
乳酸エチル 乳酸エチル 687-47-8 -
アミド N,Nジメチルホルムアミド N,N-ジメチルホルムアミド 68-12-2 -
ジメチルアセトアミド ジメチルアセトアミド 127-19-5 -
その他 DMSO ジメチルスルホキシド  67-68-5 -
γ-ブチロラクトン γ-ブチロラクトン 96-48-0 -
NMP N-メチル-2-ピロリドン 872-50-4 -
混合溶剤 ソルファイン-リンスPX-1 エステル系及びグリコール系溶剤の混合物 - 半導体フォトレジスト用シンナー及びリソグラフィー工程におけるエッジバックリンス溶剤
ソルファイン-リンスPX-7
 		 PGME及びPGMEA混合溶剤 - 半導体・液晶基板等のリソグラフィー工程におけるエッジバックリンス溶剤
ソルファイン-ストリッパー715D -

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 半導体フォトリソ工程でのドライエッチング時に発生するレジスト変質膜(サイドウォールポリマー)を除去する剥離液。エッチング装置部品の洗浄にも使用可能

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