GH-100(D タイプ)、GH-200(D タイプ)

極薄対応・低伝送損失・低熱膨張パッケージ基板用プリプレグ

製品基本情報

製品概要

  • 製品形態
    プリプレグ
    GH-100(D タイプ)、GH-200(Dタイプ)
    (D タイプ) : 低誘電ガラスクロス適用タイプ
  • 用途
    • 半導体パッケージ(FC-CSP, PoP, SiP)
    • 薄物モジュール基板

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特長

  • パッケージ材料と高周波材料の特徴を併せ持った材料です。
  • 成形後のばらつきが小さいため、インピーダンス制御に優れます。
  • X、Y方向の熱膨張係数が小さく(α1、α2)、ハロゲンフリー材料です。
  • 低誘電ガラスクロスとの組合せにより、優れた誘電特性を有します。

一般特性

プリプレグの表面観察結果(マイクロスコープ)

TYPE-F

従来品

成形後の表面観察結果(シャドウモアレ)

TYPE-F

従来品

成形後の厚みばらつき

成形条件
  • GEA-705G 1010F78
  • 銅箔:3 µm
  • 温度:230 ℃ 100 分
  • 昇温速度:3.0 ℃/分
  • 圧力:3 MPa

プリプレグ成形後のうねり(GEA-705G1010F78)

TYPE-F

従来品

プリプレグ

試験項目 処理条件 ※3 単位 実測値 試験方法
GH-100
(D タイプ)
GH-200
(D タイプ)
(IPC-TM-650)
ガラス転移温度 Tg TMA法 A 240~260 220~240 2.4.24.5
DMA法 A 240~260 250~270 -
熱膨張係数 ※1(引張り) X(30~120 ℃) A ppm/℃ 13~15 14~16 2.4.24.5
Y(30~120 ℃) 13~15 14~16
T260(銅なし) A 60以上 60以上 2.4.24.1
T288(銅なし) 60以上 60以上
比誘電率 ※2 10 GHz A - 3.5~3.7 3.2~3.4 IEC-62610
誘電正接 ※2 10 GHz A - 0.0030~0.0035 0.0025~0.0030
  • ※1 昇温速度:10 ℃/min
  • ※2 空洞共振器によります。
  • ※3 「処理条件の読み方」PDFを開く 参照
  • 上記値は実測値であり、保証値ではありません。

一般仕様

プリプレグ

品番 タイプ名 ガラスクロス プリプレグ特性
IPCスタイル 樹脂分(%) 成形厚さ ※1(mm)
GH-100 (D) 0.025 1017F71K 1017 71±2 0.027
1017F73K 73±2 0.029
1017F75K 75±2 0.031
1017F77K 77±2 0.034
1017F79K 79±2 0.038
GH-200 (D) 0.025 1017F68K 1017 68±2 0.020
1017F70K 70±2 0.022
1017F72K 72±2 0.024
1017F74K 74±2 0.026
1017F76K 76±2 0.028
1017F78K 78±2 0.031
1017F80K 80±2 0.034
1017F82K 82±2 0.038
1017F84K 84±2 0.043
参考規格(IPC-TM-650) 2.3.16
  • 成形厚さは樹脂流れを0%と仮定した場合のプリプレグ1枚当たりの厚さです。この値はプレス条件や内層パターンにより変わります。

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