耐熱性絶縁コーティング材

HIMALシリーズ

製品基本情報

製品概要

半導体チップやリードフレームの表面をコーティングし、封止材との密着性を向上させる材料です。耐熱性、絶縁性が高く、車載用途含めたパワー系モジュールの信頼性向上に有効です。30年以上の市場実績があります。

高耐熱コーティング材 「HIMAL」

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用途

使用例:絶縁層形成、封止材剥離防止

使用例:絶縁層形成、封止材剥離防止

  • 半導体デバイス及びパワーデバイスのジャンクションコート
  • 半導体デバイスの保護層
  • 封止材と基板の密着力向上、剥離防止用途
  • 半導体デバイスの絶縁層形成による、リーク電流の抑制

メリット

  • パッケージ信頼性試験、パワーサイクル試験や冷熱サイクル試験、高温放置でも高い信頼性を発現
  • 金属焼結材や高Tg封止材を用いたSiCパワーデバイスとの 高い密着性による剥離抑制可能
  • 高Tg品HL-1270シリーズは200℃の高温放置に対応
  • 低弾性率、高密着力により、応力集中によるクラック発生を抑制
  • ワイヤボンディングのリフトオフ防止が可能

特性値

測定値の一例

項目 単位 HL-1210N HL-1270N HP-1000
特長 -
  • スタンダードタイプ
  • 高耐熱、高密着力
  • 高絶縁
  • 高Tgタイプ
  • リフロー温度でも軟化なし
  • 高温での高密着力
  • 高粘度
  • 塗布形状維持
  • 厚膜絶縁層形成
塗布方法 -
  • スピンコート
  • ディッピング
  • スプレーコート
  • スピンコート
  • ディッピング
  • スプレーコート
  • ポッティング
  • ディスペンス
  • スクリーン印刷
液特性 固形分濃度 % 12 12-14 22
粘度 Pa∙s 0.2 0.2 120
フィルム特性 ガラス転移温度 ºC 220 336 210
熱分解温度 ºC 410 376 410
線膨張係数 (α1) ppm/ºC 65 63 55
貯蔵弾性率 GPa 2.9 3.3 2.8
絶縁破壊電圧 V/µm 250~400 300 230

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