直描露光対応回路形成用 感光性フィルム
Photec RDシリーズ
製品基本情報
製品概要
レ―ザー光でパターンを形成する直描露光機に対応した、配線板回路形成用のレジスト材料です。
![フォテック ダイレクトイメージング用RDシリーズ](/sites/default/files/2022-10/thumbnail.jpg)
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メリット
- レジスト側面の形状が良好で、膜厚に応じた微細回路の形成が可能
- セミアディティブ工法による回路形成に対応
- 直描露光機で使用可能
特性値
(測定の一例)
- ※ 露光機:DE-1 UH(アドテックエンジニアリング製、405 nm直描)
基板ラフネス Ra:0.4 µm
露光後加熱(P.E.B.): 80 ℃, 30秒,(箱型乾燥機)
現像液: 1.0 wt% Na2CO3aq., 30 ℃, 0.16 MPa
レジスト形状
![](/sites/default/files/2022-10/pm015001.jpg)
RD-3015 (L/S=4 µm /4 µm)
![](/sites/default/files/2022-10/pm015002.jpg)
RD-3019 (L/S=5 µm/5 µm)
![](/sites/default/files/2022-10/pm015003.jpg)
RD-3025 (L/S=7 µm/7 µm)
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