山形にSiCウェハー拠点を新設、起工式を実施

2024年09月13日
株式会社レゾナック・ホールディングス

株式会社レゾナック(社長:髙橋秀仁、以下、当社)は、株式会社レゾナック・ハードディスク(社長:真壁保志)の山形工場(山形県東根市)内に、パワー半導体向けの炭化ケイ素(SiC)ウェハー(基板・エピタキシャル)の生産建屋を新設します。このたび、9月12日に起工式を実施しました。

 今回の新設は、経済産業省から2023年6月16日に認定を受けた、経済安全保障推進法*に基づく特定重要物資である半導体部素材(SiCウェハー)の供給確保計画の実現に向けた取り組みの一環です。

 起工式は、地元東根市の土田正剛市長や山形県をはじめとする関係者をお招きし実施いたしました。当社側からは、株式会社レゾナック 業務執行役 デバイスソリューション事業部 事業部長 武田真人らが参加し、工期中の安全を祈願しました。竣工は、2025年第3四半期予定しております。

 

集合写真

 

起工式の様子
起工式の様子

 

完成イメージ
完成イメージ

 

SiCエピタキシャルウェハー
SiCエピタキシャルウェハー(左:150mm、右:200mm)​

 

レゾナックグループは、「共創型化学会社」として、グローバル社会の持続可能な発展に貢献することを目指し、エネルギー効率化を実現するSiCエピタキシャルウェハーをコア成長事業と位置付けて注力しています。今後も、“ベスト・イン・クラス”をモットーに、高性能で高い信頼性の製品を供給することで、SiCパワー半導体の普及に貢献していきます。

 

【概要】
 所在地:山形県東根市大字東根甲
 竣 工:2025年第3四半期(予定)
 建築面積:5,832㎡

*経済施策を一体的に講ずることによる安全保障の確保の推進に関する法律

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