| 年 |
事項 |
| 1956 |
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| 1962 |
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| 1968 |
- 山崎工場(現 山崎事業所)油化部として、ジシクロペンタジエンの製造開始
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| 1970 |
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| 1971 |
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| 1972 |
- 山崎工場より無水ハイミック酸、無水メチルハイミック酸を移管、製造開始
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| 1973 |
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| 1981 |
- 機能性アクリレート(ファンクリル:FA)の製造開始
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| 1983 |
- 電子材料用コーティング材(ハイマル:HL)の製造開始
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| 1986 |
- タンタルコンデンサ用銀ペースト(ハイマル:TC)の製造開始
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| 1988 |
- エポキシ硬化剤「HN-2000」の製造開始
- 半導体用防湿コーティング材(ハイマル:HIR)の製造開始
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| 1989 |
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| 1995 |
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| 1999 |
- 五井事業所に名称変更
- 半導体用液状ソルダーレジストの製造開始
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| 2003 |
- ダイシング・ダイボンディング一体型フィルム「FHシリーズ」の製造開始
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| 2004 |
- 高耐熱性絶縁材料「KS-6000、8000シリーズ」の製造開始
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| 2006 |
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| 2009 |
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| 2010 |
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| 2016 |
- 日立化成ポリマー(株)の吸収合併により、同社野田工場、徳島工場を統合
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